迪士尼彩乐园邀请码852852 下一代EUV光源，好意思国再次最初，芯片制造效劳飙升十倍！
从左至右：德鲁·威拉德、布兰登·里根和伊萨·塔默正在大口径铥（BAT）激光系统上责任迪士尼彩乐园邀请码852852。（相片：杰森·劳雷亚/LLNL）
数十年来，好意思国劳伦斯利弗莫尔国度现实室（LLNL）在激光、光学和等离子体物理学界限的顶端究诘，在半导体行业用于制造先进微处理器的基础科学中发达了重要作用。这些计较机芯片鼓吹了面前东说念主工智能、高性能超等计较机和智高东说念主机界限的惊东说念主转变。
如今，由LLNL指挥的一个新的究诘团搭伙伴联系旨在为下一代极紫外（EUV）光刻本事奠定基础，该本事围绕现实室开垦的运行系统——大口径铥（BAT）激光系统伸开。这一碎裂可能为新一代“卓越 EUV”的光刻系统铺平说念路，从而以更快的速率和更低的能耗制造芯片。
该团队将参与极紫外光刻与材料转变中心（ELMIC），这是好意思国动力部（DOE）科学办公室选用的微电子科学究诘中心（MSRC）之一。动力部通告为这三个MSRC提供1.79亿好意思元的资金，这些中心是把柄2022年两党通过的《芯片和科学法案》授权培育的。
ELMIC旨在鼓吹将新材料和新工艺集成到将来微电子系统中的基础科学跳动。LLNL指挥的该名目是ELMIC中心内一项为期四年、耗资1200万好意思元的究诘，特意旨在彭胀围绕EUV产生和基于等离子体的粒子源的基础科学。ELMIC的其他名目将侧重于重要究诘界限，如基于等离子体的纳米制造、二维材料系统和极大界限存储。
LLNL指挥的名目将测试BAT激光系统在提升EUV光源效劳方面的智商，与刻下的行业圭臬——二氧化碳（CO2）激光器比较，效劳可提升约10倍。这可能会引颈下一代“卓越EUV”的光刻系统，出产出更小、更渊博、制造速率更快且耗电量更少的芯片。
“在昔时的五年里，咱们照旧完成了表面等离子体模拟和见解考据激光演示，为这个名目奠定了基础，”LLNL激光物理学家布兰登·里根说。“咱们的责任照旧在EUV光刻界产生了极端大的影响，是以咱们现在很答应迈出这一步。”
里根和LLNL等离子体物理学家杰克逊·威廉姆斯是该项宗旨联结首席究诘员。该名目包括来自SLAC国度加快器现实室、ASML圣地亚哥分公司以及荷兰的先进纳米光刻究诘中心（ARCNL）的科学家。
EUV光刻波及高功率激光器以每秒数万滴的速率映照锡滴。激光将每滴约30微米（百万分之一米）的锡滴加热到50万摄氏度，产生等离子体，从而生成波长为13.5纳米的紫外光。
特等的多层镜子指挥光辉穿过称为掩模的板迪士尼彩乐园邀请码852852，这些板上刻有半导体晶片的集成电路复杂图案。光辉将图案投射到光刻胶层上，该层被蚀刻掉，从而在芯片上留住集成电路。
LLNL指挥的名目将究诘一个主要假定，即不错通过为新式拍瓦（petawatt）BAT激光系统开垦的本事来提升用于半导体出产的现存EUV光刻光源的能量效劳。BAT激光系统使用掺铥钇锂氟化物动作增益介质，通过该介质增多激光束的功率和强度。
掺铥钇锂氟化物的特有中心波长约为2微米，不同于总共其他在1微米或以下或10微米操作的强激光。该名目将是对2微米处焦耳级激光-靶耦合的初度探索。
这项责任建立在LLNL现实室定向究诘和开垦贪图的里面投资，以及动力部科学办公室高能物理加快器处理贪图和外部国防高档究诘贪图局的提拔所赢得的放胆之上。
究诘东说念主员贪图展示将紧凑型高重叠率BAT激光系统与使用整形纳秒脉冲产生EUV光源的本事，以及使用超短亚皮秒脉冲产生高能X射线和粒子的本事相结合。
“这个名目将在LLNL建立第一个高功率、高重叠率、约2微米的激光器，”威廉姆斯说。“BAT激光器所具备的智商也将对高能量密度物理和惯性聚变动力界限产生重要影响。”
好多现实将在LLNL的“木星激光步履”（Jupiter Laser Facility (JLF) ）进行。JLF是一个中型用户步履，刚刚完成了为期四年的翻修，况兼是LaserNetUS的成员，后者是动力部科学办公室聚变动力科学在北好意思的高功率激光步履集聚。
该图露出了高重叠率激光脉冲参预LLNL JLF激光步履的泰坦靶区（中心），迪士尼彩乐园邀请码852852在那处，大口径铥激光束击中两种靶配置：短脉冲映照液流片以产生高能粒子（左），长脉冲映照液滴以产生极紫外光并进行其他现实（右）。
自确立以来，半导体行业就一直在不停竞赛，通过尽可能多地将集成电路和其他特色集成到一个芯片上，使每一代微处理器变得更小但更渊博。在昔时几年里，EUV光刻本事一直占据前沿地位，因为它使用EUV光在先进芯片和处理器上蚀刻出仅有几纳米大小的微不雅电路。
里根指出，现实室永远以来一直在草创EUV光刻本事的发展，包括早期的光谱究诘，这些究诘为基于等离子体的EUV光源奠定了基础。
本着诚实透明的态度，Team Jade定期发布关于反作弊情况的更新，数据相当惊人。根据最新报告，在12月20日至12月26日的期间，《三角洲行动》安全团队共发出1729个封禁。
1997年，一项波及LLNL、桑迪亚国度现实室和劳伦斯伯克利国度现实室的兼并究诘名目导致了工程测试台的开垦，这是第一个原型EUV曝光器用。
此外，现实室还开垦了高效的多层光学元件，这些元件在传输和运送用于光刻的EUV光方面发达了重要作用。此前，LLNL曾与ASML兼并，愚弄现实室平时的等离子体模拟智商来优化光源效劳。
多年来，LLNL的多学科究诘为多层涂层科学和本事、光学计量学、光源、激光器、高性能计较，以及值得刺眼的是，2022年12月在国度焚烧步履（NIF）结束的历史性聚变焚烧成就，作念出了迫切孝敬。
ASML是最大贸易芯片出产商所使用的EUV光刻机的制造商，该公司使用CO2脉冲激光器来运行EUV光源。但LLNL昔时十年的究诘标明，较新的二极管运行的固态激光本事为结束EUV光刻系统更高的功率和合座效劳提供了一条有但愿的路线。
除了里根和威廉姆斯外，LLNL多学科团队的重要成员还包括费利西·阿尔伯特、莱莉·基亚尼、艾米丽·林克、托马斯·斯平卡、伊萨·塔默和斯科特·威尔克斯。
该名目还包括SLAC高能量密度分部主任、前LLNL等离子体物理组组长西格弗里德·格伦泽，ASML首席EUV光源究诘本事大众迈克尔·珀维斯，以及ARCNL光源部门追究东说念主奥斯卡·韦尔索拉托。
